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污泥除臭治理-铜陵除臭治理-安徽锦天具有多年经验

2020/3/29 23:47:06发布141次查看

污泥除臭治理-铜陵除臭治理-安徽锦天具有多年经验
涂装业废气处理设备的应用现状
vocs废气治理技术类型较多,需依据废气的风量与浓度参数,结合处理效率、治理设备投入等情况选用较为适宜的处理工艺技术。吸附法是常用的治理技术,单套装置实用气体流量范围为1000㎎/m 3 ~60000㎎/m 3 ,适宜废气温度<45℃,vocs的浓度<200㎎/m 3 ,可实现的治理效率为50.0~80.0%。但是该治理技术在应用期间需及时更换活性炭,工业除臭治理费用,否则会造成废气治理效率降低,铜陵除臭治理,吸附作业完成后形成的废物具有一定危险性。
半导体行业有机废气和毒气的来源
半导体制造工艺产生的挥发性有机废气,主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序,在这些工序中要用有机溶液(如异丙1醇)对晶片表面进行清洗,其挥发产生的废气是有机废气的来源之一;同时,在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂(光刻胶)中含有易挥发的有机1溶剂,如醋酸丁酯等,在晶片处理过程中也要挥发到大气中,是有机废气产生的又一来源。
与半导体制造工艺相比,工业除臭治理价格,半导体封装工艺产生的有机废气较为简单,主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。
含毒气性废气,其来源为化学气相沉积、干蚀刻机、扩散、离子布值机及磊晶等制程时所产生。主要成分是磷1化氢、shen化氢、氯1气等。
工业废气除臭方法
氧化法
脱臭原理:反应塔内装填特1制的固态复合填料,填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层,与通过特1制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触,并在多介质催化剂的催化作用下,恶臭气体中的污染因子被充分分解。
适用范围:适用范围广,尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气,对疏水性污染物质有很好的去除率。
优点:占地小,污泥除臭治理,投资低,运行成本低;管理方便,即开即用;耐冲击负荷,不易污染物浓度及温度变化影响。
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